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DUV設備 C/V設備
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HORIBA 濃度計校正
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DUV/EUV(表面改質、親水化)
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DUV/EUV(表面改質、親水化)

DUV Lamp是254nm和185nm波長的紫外線,EUV LAMP是172nm波長的紫外線,主要應用於乾洗淨製程上,去除被照射物表面之有機物質...

化學藥液濃度計
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化學藥液濃度計

HORIBA的化學藥液濃度計可即時監測不同藥液的濃度,如SC-1、SC-2、SPM、HF等。 此款濃度計可應用於半導體中的清洗或蝕刻製程...

氣體質量流量控制器(MFC)
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氣體質量流量控制器(MFC)

HORIBA-STEC提供多種不同類型的氣體質量流量控制器以滿足客户不同的需求。所有產品都擁有高精度、快速響應的特性...

精密塗佈系統 (PCS)
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精密塗佈系統 (PCS)

分别控制粒子直徑和粒子飛行速度以達到最適當的塗膜技術、利用低壓可以實現更均匀的微粒化的技術,通過與連續穩定供應材料的技術相結合...

超高壓微噴射清洗系統 HPMJ
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超高壓微噴射清洗系統 HPMJ

所謂超高壓微噴射清洗系統,是指將清洗液用泵浦加壓、輸送,利用從微型噴射式噴嘴中噴出的微小液滴化的清洗液,對準物件高速噴射的物理清洗系統...

業務實績

半導體

光電業

太陽能

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